
手套箱旋涂
產品詳情
1 機器功能
1.1 手套箱旋涂設備廣泛應用于無水、無氧、無塵的超純環境
1.2 手套箱旋涂設備的主要作用是對O2、H2O、有機氣體的清除
1.3 手套箱旋涂設備具有快速啟動、快速切換轉速和轉速穩定的性能,能夠保證膠膜厚度的一致性和均勻性,適用于半導體硅片,載玻片,晶片,基片,ITO 導電玻的,半導體工藝、制版、及表面涂覆等工藝。


詢盤
1 機器功能
1.1 手套箱旋涂設備廣泛應用于無水、無氧、無塵的超純環境
1.2 手套箱旋涂設備的主要作用是對O2、H2O、有機氣體的清除
1.3 手套箱旋涂設備具有快速啟動、快速切換轉速和轉速穩定的性能,能夠保證膠膜厚度的一致性和均勻性,適用于半導體硅片,載玻片,晶片,基片,ITO 導電玻的,半導體工藝、制版、及表面涂覆等工藝。